シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。
■国内マスク製造メーカー業界ではシェアー90%を誇ります。
■「研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」に最適。
■デバイスメーカ様では、「コンタクト露光時に付着したレジスト除去」に実績豊富
■基板サイズごとにシリーズ化した標準装置ですが、カスタム対応も可能です。
■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」
◎スクラブや2流体処理時には、スキャン旋回機能が標準搭載
◎DIW2流体ツールで、優れたパーティクル除去
◎スクラブブラシは、ナイロン刷毛ブラシ or PVAブラシを基板表面状態で選択
■各種オプションで多様なニーズに対応
◎<洗剤の自動希釈><ブラシの自己超音波洗浄><CO2イオナイザー><MS洗浄>
■基板のC/C自動搬送処理装置にも対応実績豊富
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、マスク洗浄装置、ウエハ洗浄装置
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