フォトリソプロセス一貫処理が可能
■G8.5世代の超大型重量基板に対応します。
◎対応基板サイズ：1.3m X 1.5m X15mm t
■フォトリソ一プロセスの一貫処理に対応。
◎処理工程：LD⇒現像⇒エッチング⇒剥離⇒洗浄⇒ULD
■国内の複数メーカーに複数台の実績がございます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、有機EL、表面処理、ウエハ剥離装置、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機
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株式会社ソフエンジニアリング
