最終更新日:
2024-09-04 15:17:48.0
パルス機能を利用!ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能
『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。
パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition:原子層堆積)と
同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。
プロセス温度は80℃~500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は
0.1nm/min~500nm/minとなっております。
【仕様】
■プロセス温度:80℃~500℃
■ウエハサイズ:150mm、200mm
■成膜速度:0.1nm/min~500nm/min
■アスペクト比
・20:1
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