最終更新日:
2022-11-14 11:00:51.0
フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去!当社のプラズマ除去装置をご紹介
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社で取り扱う、『HDRF』を
ご紹介いたします。
MEMS、LED、先端パッケージングのデバイス製造段階で特に重要になる、
フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去します。
ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。
【特長】
■温度
・Low temp:50℃ to 150℃
・High rate:150℃ to 250℃
■ウエハ:2"~8"
※英語版カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
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価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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