プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマCVD装置『210Dモデル』

最終更新日: 2024-05-28 17:22:29.0
φ200mmウェーハまで対応!成膜・エッチングの両用が可能なプラズマCVD装置です

『210Dモデル』は、誘導結合プラズマ(Inductively Coupled
Plasma:ICP)による、成膜装置です。

現場でのハードウエアの交換により、十数分の作業時間で、
誘導結合プラズマエッチング装置として使用する事が可能。

コンパクトな機体に多彩なオプションで、薄膜の堆積やトレンチのパターニング等、
様々なアプリケーションに対応。

【特長】
■簡単なハードウェア交換で、プラズマCVD及びRIEとして使用可能
■業界標準と比較して約30%小さいフットプリント
■感覚的に理解が容易なグラフィックインターフェイスで操作が簡単
■ご要望に応じて、特殊仕様にも対応可能

※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

【仕様】
■ICP-CVD成膜装置 及び ICP-RIEドライエッチャー
■-20℃~150℃(オプションにより変更可能)
■クーポンタイプから最大φ200mmフルウェーハまで対応
■2”ウェハ7枚、3”ウェハ3枚等のバッチ処理も可能
■ガス配管:標準8ライン(オプションにより最大11ライン)

※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 【用途】
■ドライエッチング、及び成膜を必要するさまざまな製品の開発

お問い合わせ

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