最終更新日:
2024-10-09 15:44:42.0
ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適！
『TFE ニュースパッタリングシリーズ』は、多彩な機能を有する
研究開発及び小規模生産用システムであり、金属ナノ粒子、ナノワイヤー、
ナノシートなどのナノマテリアル用メタル膜・誘電体膜の最大800℃までの
高温成膜が可能な小型スパッタリング装置です。
また手動あるいは自動ロードロックが選択可能で、かつPLCおよびPCによる
完全自動制御とインターネットによるリモートコントロールを実現した
スパッタリング装置。
ナノマテリアル用薄膜成膜において高い基板加熱温度(最大加熱温度：
800℃)を求めるエンジニアの方におすすめします。
【特長】
■ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、
ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適
■他社装置では困難な800℃基板加熱が可能
■基板回転付きコスパッタが可能
※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【その他の特長】
■研究開発及び小規模生産用スパッタリング装置
■最大加熱温度：800℃
■Cosputterが可能(基板回転が可能)
■基板サイズ：2インチから8インチに対応(異形状のワークをパレットに搭載して搬送することが可能)
■最大4つのカソード(スパッタアップ・スパッタダウン)の装着が可能
■強誘電体・強磁性体用強磁場カソードを提供可能
■手動及び自動ロードロックを選択可能
※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシートなど微細構造をもつメタルや誘電体)用高温成膜 ■光学薄膜用途：低屈折率材料(SiO2)及び高屈折率材料：(Ta2O5、Nb2O5、TiO2)の成膜 ■磁性層(NiFe、FeCo、CoFeB、Pd、Co)の成膜 ■EUVマスクブランクス超薄膜多層膜の成膜(Si、Mo、Ru) ■高温ボロメトリック・サブストイキオメトリック膜の成膜(VOx、TiOx) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。 |
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プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
