最終更新日:
2024-10-09 15:44:42.0
研究開発及び小規模生産用イオンビームスパッタリング装置！
『TFE ニューイオンビームスパッタシリーズ』は、多彩な機能を有する
研究開発及び小規模生産用システムであり、特にMTJ素子等の強磁性薄膜の
薄膜形成がプラズマダメージフリーで可能な強磁性膜・固体電解質
成膜ソリューションです。
また固体燃料電池用電解質の成膜において、良好な膜厚分布を実現した
イオンビームスパッタリング装置。
さらには、手動あるいは自動ロードロックが選択可能で、かつPLCおよび
PCによる完全自動制御とインターネットによるリモートコントロールを
実現したスパッタリング装置です。
【特長】
■強磁性素子(MTJ用薄膜の成膜に応用可能なプラズマダメージ
フリーなプロセス)
■固体燃料電池用電解質の膜厚均一性に優れた成膜
(グローブボックス装着可能)
■優れた膜厚均一性(＜2％：3σ, 200mmウェーハ)
※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【その他の特長】
■研究開発及び小規模生産用イオンビームスパッタリング装置
■強磁性体素子のプラズマダメージフリーな成膜が可能
■固体燃料電池用電解質の膜厚均一性(＜2％：3σ、200mm)に優れた成膜が可能
■イオンアシスト用イオンソースを備えた反応性イオンビームスパッタが可能
■最大4つのカソードを用いたイオンビームスパッタが可能
※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■強磁性素子(MTJ)用薄膜の成膜及び固体燃料電池用電解質の成膜(グローブボックス装着可能)において プラズマダメージフリーなスパッタプロセス ■優れた膜厚均一性(＜2％：3σ, 200mmウェーハ) ■非常に優れたラン・ツー・ラン再現性 ■緻密で表面平滑性に優れた薄膜の成膜 ■最大4つのターゲットの装着が可能 ■光学薄膜用途：低屈折率材料(SiO2)及び高屈折率材料：(Ta2O5、Nb2O5、TiO2)の成膜 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。 |
お問い合わせ
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プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
