ウェハやガラス等の多種基板の処理可能 幅広い用途対応した可変雰囲気熱処理装置 （Ｏ２ｏｒH2雰囲気アニールサンプルテスト対応）
当社では、真空・酸素雰囲気(常圧)・還元雰囲気(常圧)の雰囲気での
処理が選択できる急昇降温型の「横型アニール装置」を取り扱っています。
6インチまでの各種基板(ウェハ、セラミック、ガラス、実装基板)の処理に
対応しており、薄膜やウェハのアニール、ナノ金属ペーストの焼成、
有機材のキュアなど多くの用途に実績を持っています。
御評価をご希望の方はサンプルテストをお受けしております。
仕様詳細や対応可能なテスト内容などにつきましてはお問い合わせください。
【特長】
■各種雰囲気(真空、N2、O2、H2)での均一な加熱処理(～900℃)
■加熱炉体の移動による急速冷却
■石英チューブによるクリーン雰囲気中処理
■幅広い用途への対応
※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 |
【用途】 ■薄膜アニール＝高融点金属膜アニール、電極・配線膜アニール・合金化 ■ウェハの熱処理＝LTウェハ抵抗値制御アニール、SiウェハH2アニール ■接合材焼結＝パワーデバイスモジュール接合工程 ■ポリイミドキュア＝高密度実装基板 ウェハレベルパッケージ ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
関連ダウンロード
アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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神港精機株式会社 東京支店
