熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩素系ガスへの対応を両立。ガス処理も併用する信頼のシステム
ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。
ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。
主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。
特に表面処理用の熱ＣＶＤ装置の塩素系ガスの排気系に有効で工具や金型・半導体用治具の生産に多数使用中。
Ｓｉエピタキシャル成長時やエッチング時のの塩素系ガスの排気にも応用可能。
主ポンプのの水封式真空ポンプもALLステンレス製を採用し耐食性にも優れた専用真空排気システム
ALLステンレス製水封式真空ポンプとメカニカルブースタの組み合わせを基本とした真空ポンプユニット。
使用する圧力・排気量にあわせて最適な組み合わせが可能。
排気量を重視したメカニカルブースタの多段化や空気エゼクタなど柔軟な対応が特徴。
ポンプの特性と材質によってパーティクルや塩素系ガスの排気に実績豊富なシステム。
豊富なポンプの組み合わせによって幅広い要求に対応。
成膜前の粗引排気にラフプロセス用ドライ真空ポンプ（SSHシリーズ）を使用する事でさらに信頼性の高いシステムにグレードアップ。圧力調整機構を含めた排気システムとして提案可能。
使用する圧力・排気量にあわせて最適な組み合わせが可能。
排気量を重視したメカニカルブースタの多段化や空気エゼクタなど柔軟な対応が特徴。
ポンプの特性と材質によってパーティクルや塩素系ガスの排気に実績豊富なシステム。
豊富なポンプの組み合わせによって幅広い要求に対応。
成膜前の粗引排気にラフプロセス用ドライ真空ポンプ（SSHシリーズ）を使用する事でさらに信頼性の高いシステムにグレードアップ。圧力調整機構を含めた排気システムとして提案可能。
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表面処理用熱ＣＶＤ装置排気系 切削工具用熱ＣＶＤ装置排気系 半導体装置治具コーティング用熱ＣＶＤ装置排気系 |
関連ダウンロード
ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）
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神港精機株式会社 東京支店
