驚くほど緻密で平滑な反応膜を実現した『アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置』
当社で取り扱う、『アーク放電型マグネトロンスパッタ装置』をご紹介します。
マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加
したことで、基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多くなり、
緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成できるようになりました。
また、コーティング面の仕上げ研磨が不要になったことで、耐久性も向上し、
省エネルギーに貢献しています。
【特長】
■マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加
■基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多い
■緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成
■コーティング面の仕上げ研磨が不要
■耐久性も向上し、省エネルギーに貢献
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
関連ダウンロード
【関西ものづくり新撰2023選定！】緻密＆平滑膜形成装置
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
神港精機株式会社 東京支店
