小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置 全手動操作で低コスト化を実現。研究実験専用の標準タイプ
高い信頼性をもつ上位機種と真空槽・排気系を共通化。操作方法の手動化によって低コスト化を実現。膜種・目的に合わせて各部(カソード・基板台等)が選択可能。実績豊富な各部機構と安定した成膜性能で研究開発作業の効率化・質の向上が「図れます。
成膜系:φ3インチカソード 1元装備
:高周波電源 1源装備
:基板加熱機構標準装備
:排気系 拡散ポンプ&油回転ポンプ
操作系:全手動
オプション機構
磁性材用カソード コンベンショナルカソード DCバイアス
逆スパッタ機構 バイアススパッタ機構 基板高温加熱
主ポンプ変更(ターボ分子ポンプ採用)
全自動化
:高周波電源 1源装備
:基板加熱機構標準装備
:排気系 拡散ポンプ&油回転ポンプ
操作系:全手動
オプション機構
磁性材用カソード コンベンショナルカソード DCバイアス
逆スパッタ機構 バイアススパッタ機構 基板高温加熱
主ポンプ変更(ターボ分子ポンプ採用)
全自動化
価格情報 | お問合せ下さい。 |
---|---|
納期 |
お問い合わせください
※ お問合せ下さい。 |
型番・ブランド名 | SRV3100型 |
用途/実績例 |
大学・公的機関での基礎研究 化合物半導体研究 金属・セラミックス表面処理処理研究開発 |
関連ダウンロード
簡易実験用スパッタリング装置(SRV3100型)
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
神港精機株式会社 東京支店