ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大8インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。
基本情報
・対応基板サイズ
MABA6 : 小片~最大φ150mm
MABA8 : 小片~最大φ200mm
※150×150,200×200mm対応はオプション
・露光モード
コンタクトソフト, ハード, バキューム
プロキシミティ露光ギャップ: 1~300μm
オプションフラッド露光分割露光
・露光光学系
波⾧
UV400 350~450nm
UV300 280~350nm
UV250 240~260nm
光源
光源水銀ランプ350W
水銀キセノンランプ500W
UV-LED ( i, h, g線対応)
面内照度均一性: ±2.5%
・アライメント方式
TSAアライメント(表面アライメント)
BSAアライメント
IRアライメント(オプション)
・アライメントモード
マニュアルアライメント
オートアライメント(オプション)
DirectAlign(オプション)
・オプション機能
小片基板用対物レンズ
赤外光アライメント
ボンドアライメント
SMILE(ウェハーレベルレンズインプリント及びスタック)
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | SUSS MicroTec MA/BA Gen4 |
用途/実績例 | MEMS アドバンスドパッケージ 3次元パッケージング 化合物半導体 パワーデバイス 太陽光発電 ナノテクノロジー ウエハレベルオプティクス |
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